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铜件为什么要化学抛光?基本原理是什么?

文章出处:常见问题责任编辑:东莞市康鑫铜业有限公司 发表时间:2024-07-19

铜材化学抛光是将铜制品浸泡在一定化学成分的化学抛光液中,在一定温度下进行化学反应,经过一定时间得到光亮而平滑的铜表面。

  到今天为止机械抛光虽然可以消除粗糙的表面,达到外观光洁的要求,但由于在抛光过程中工件表面受到压力和热的作用,产生表面晶体变形层,对此还需要进行化学抛光加以去除。以便获得铜件表面装饰性良好的优质膜层。
  化学抛光的基本原理 (1) :在40度左右的温度中的酸的液体中,抛光液中的氧化剂使铜件表面生成氧化膜;同时由于酸的溶解作用而使氧化膜溶解。当酸的化学反应达到平衡时就可以产生平滑的高反射率的铜表面。
化学抛光的基本原理(2) :黏度较大的酸溶液将铜表面溶解后在所形成的新的铜表面上产生的金属铜会向溶液缓慢地扩散开,但药水浓度梯度在凸出的部位变化快,而在凹陷部位变化慢。结果就会使得铜表面上微光凸出处的溶解比凹陷的地方要快,是铜件表面逐渐平整,达到光亮平滑的表面。


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